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簡要描述：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運行時間極長。ISTEQ公司為LPP光源開發(fā)的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專li。荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源
產(chǎn)品型號：TEUS S-100更新時間：2024-08-07訪 問 量：1235產(chǎn)品簡介
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 10萬-15萬 |
|---|---|---|---|
| 照射方式 | 內照式 | 光源種類 | 氙燈光源 |
| 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,航天,電氣 |
詳細介紹
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源
產(chǎn)品介紹：
ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續(xù)運行時間極長。
ISTEQ公司為LPP光源開發(fā)的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發(fā)了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專li。
產(chǎn)品特點：
·高亮度以及出色的穩(wěn)定性
·最少的碎片
·ji高的正常運行時間
·高占空比和交鑰匙操作
·用戶友好的自動化協(xié)議，確保系統(tǒng)平穩(wěn)運行，沒有中斷的風險。
產(chǎn)品應用：
·掩模和表面檢查：
·圖案掩模檢測 (PMI)
·區(qū)域掩模檢測 (AIMS)
·掩?？瞻讬z測 (MBI)
·EUV 掃描儀檢
·材料科學
·晶圓檢查
TEUS 系列激光等離子體光源 |
型號參數(shù)：
型號 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
激光平均功率100 | 400 | ||
脈沖重頻25或50或100或EUV功率立體角0.05 | |||
等離子體尺寸m | 60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
碎片處理系統(tǒng)后角內光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr | 80或≥≥ 280 | 310或≥ 3% rms | |
在10% | 不少于4個月 | 不少于24/7運行狀態(tài)下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降18個月 | 不少于4個月 |
維護時間間隔 | - 1 天 | - 2天 | - 1天 |
*** | 3個月 | 5 kW | 10.5 kW |
尺寸（長×寬×高）1500×1200 | |||
重量，包括激光組件770 | |||
房間潔凈度等級 | 10升15升25升/分鐘 | ||
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